Dépôt par torche plasma atmosphérique

Materia Nova a développé en collaboration avec IONICS des torches plasma micro-ondes qui permettent de générer un plasma à l'extérieur de la torche directement en contact avec le substrat à traiter.

• Ceci confère à la technologie plusieurs avantages par rapport aux torches classiques :
• L'etching de surface à l'aide des ions et électrons pour le nettoyage et la préparation de la surface (avant coating).
• Le dépôt direct des matériaux à la pression atmosphérique à partir des poudres de ces matériaux.
• Le dépôt de matériaux à partir de précurseurs chimiques.
• La diminution des coûts opérationnels (gaz, énergie).

L'action combinée des radicaux et des espèces chargées du plasma permet d'éliminer les pollutions organiques mais aussi de fonctionnaliser les surfaces par greffage de fonctions chimiques diverses. Cette méthode est dès lors particulièrement efficace pour contrôler la mouillabilité des surfaces ou leur affinité chimique. Ces méthodes de dépôt par torche plasma sont aujourd'hui également utilisées pour la destruction d'organismes biologiques en surface de matériaux permettant la stérilisation à sec et à froid.