Sprühpyrolyse-Anlage (AA-CVD)

Im Gegensatz zu den meisten akademischen oder industriellen Sprühpyrolyseanlagen, die unter einem Abzug in offener Atmosphäre betrieben werden, arbeitet unsere Anlage in einer geschlossenen Kammer mit kontrollierter Atmosphäre. Diese Konfiguration ermöglicht eine präzise Steuerung der Vorläuferzufuhr sowie der Ableitung von Reaktionsrückständen und gewährleistet eine höhere Reproduzierbarkeit, Rückverfolgbarkeit und Sicherheit als offene Systeme.

Die Lösung wird zu feinen Tröpfchen zerstäubt und zum Substrat transportiert. Beim Kontakt mit der erhitzten Oberfläche (typischerweise zwischen 400 und 800 °C) zersetzen sich die Verbindungen und bilden eine funktionelle Feststoffschicht.

Dieser Ansatz, der dem CVD-Verfahren ähnelt, jedoch flüssige Vorläufer verwendet, eignet sich besonders für die kostengünstige Herstellung funktioneller Beschichtungen.

Die Technologie ermöglicht den Einsatz einer breiten Palette von Vorläuferverbindungen: Metallnitrate, Metallchloride, Alkoxide (z. B. Zr(OR)₄) sowie metallorganische Komplexe.

Diese Flexibilität ermöglicht die Abscheidung zahlreicher funktioneller Oxide (ZrO₂, TiO₂ usw.).

Hauptmerkmale:

• Kammer mit kontrollierter Atmosphäre (derzeit im oxidativen Modus / Luft betrieben)
• Erfassung und Behandlung von Abgasen
• Vollständig computergesteuerter Prozess
• Substrate bis zum Format A4 (Glas, Quarz, Siliziumwafer, Metalle)
• Beheizte Plattform bis etwa 500 °C

Diese Anlage ermöglicht Arbeiten unter reproduzierbaren und sicheren Bedingungen und eignet sich daher besonders für industrielle Entwicklungsprojekte.

Anwendungsbereiche:

• Funktionelle Beschichtungen (optische, Barriere- und katalytische Schichten)
• Funktionsverglasungen: Low-E-Beschichtungen und transparente leitfähige Oxide (TCO)
• Elektroden für Batterien oder Sensoren
• Beschichtungen für Energieanwendungen (Photovoltaik, Wasserstoff, SOFC)
• Korrosionsschutz und Hochtemperatur-Barrierebeschichtungen
• Oberflächenschutz und Funktionalisierung