Spectroscopie de Photoélectrons induits par rayons X (XPS)

La technique d'analyse XPS est utilisée afin de déterminer quantitativement la composition atomique et la composition chimique d’échantillons solides sur une profondeur de l'ordre de 10nm. L’étude des surfaces constitue donc la majeure partie des applications de cette technique. Il est également possible de quantifier les éléments chimiques en fonction de la profondeur en réalisant un profilage à l'aide de canons de pulvérisation ionique (Ar/C60).

 

 

Avantages

  • Analyse de tout matériau compatible avec l’ultravide : isolants, organiques, polymères, poudres, métaux, verres,…
  • Détermination de la composition élémentaire (tous les éléments sauf H et He)
  • Analyse quantitative + stœchiométrique (limites de détection : de l’ordre de 0.1 % atomique)
  • Détermination des fonctions chimiques, degrés d’oxydation
  • Profils de composition en profondeur par analyse angulaire et érosion ionique (canon Ar et C60 pour le profil de polymères)
  • Taille d’analyse : µ-spot de 10 µm à spot de 200µm (balayable sur 1300 x 400 µm max)
  • Imagerie chimique (résolution ~10 µm)